Podłoża ceramiczne ALN
Podłoża ceramiczne ALN

Podłoża ceramiczne ALN

Pozycja: ALN Ceramiczne podłoża
Materiał: Aln
Rozmiar: 12 0 mm x 120 mm, grubość większa lub równa 0,1 mm
Kształt: kwadratowy i dostosowany
Proces: naciśnięcie na sucho lub rzucanie kranowe, spiekanie bez ciśnienia, precyzyjne obróbka/przetwarzanie laserowe, polerowanie powierzchniowe
Wyślij zapytanie
Czatuj teraz
Opis produktów
Aluminum Nitride-AlN Substrate

Podstawowe informacje

 

Wraz z energicznym rozwojem mikroelektroniki i technologii półprzewodnikowych silniki i komponenty elektroniczne stopniowo wchodzą w epokę miniaturyzacji, lekkiej gęstości o wysokiej energii i wydajności o dużej mocy. Gęstość strumienia ciepła przez podłoża elektroniczne znacznie wzrosła, a utrzymanie stabilnego środowiska operacyjnego w sprzęcie stało się problemem technicznym, który wymaga szczególnej uwagi. Substraty ceramiczne ALN mają charakterystykę wysokiej przewodności cieplnej, współczynnika rozszerzania cieplnego zbliżonego do krzemu, wysokiej wytrzymałości mechanicznej, dobrej stabilności chemicznej, ochrony środowiska i nietoksyczności. Jest uważany za idealny materiał do nowej generowania podłoża ciepła i opakowania urządzeń elektronicznych.

 

Chipnano Advanced Materials oferuje różnorodne aluminiowe produkty ceramiczne azotku, w tym podłoże ALN, arkusze, pręty, rurki, rury, płytki, pierścienie, tygle, części i itp. Produkty można również dokładnie przetworzyć poprzez wiercenie, rowkowanie, stukanie itp.

Jako nowa generacja materiału o wysokiej przewodności cieplnej azotek aluminiowy ma wiele zalet:

-Wysoka przewodność cieplna, ponad 7 razy więcej ceramiki glinu;

-Low Współczynnik rozszerzania termicznego (4. 5-10-6/ stopień) pasuje do półprzewodnikowych materiałów silikonowych (3. {4}}. 0-10-6/ stopień);

-Low Dielektryczna stała

-Wydajność izolacji

-Współczynniki właściwości mechaniczne, o wyższej wytrzymałości na zginanie niż Ceramika Al2O3 i Beo, i mogą być spiekane pod normalnym ciśnieniem;

-Odporność na szat i odporność na erozję na stopiony metal

 

Aluminum Nitride Substrate
Specyfikacje

Specyfikacje ceramicznego podłoża azotku glinu

Produkt

Podłoża ceramiczne ALN

Tworzywo

Aln

Typ

Kwadratowe i dostosowane

Proces

Suche naciskanie lub rzucanie kranowe, spiekanie bez ciśnienia, precyzyjne obróbka/przetwarzanie laserowe, polerowanie powierzchniowe

Chropowatość powierzchni

Ra<0.6um

 

Wymiary dla podłożów ceramicznych ALN

Długość x szerokość

50 mm x 50 mm

120 mm x 120 mm

150 mm x 150 mm

190 mm x 140 mm

Grubość

Większe lub równe 0. 1 mm

Rozmiar substratów można dostosować

Aluminum Nitride AlN Substrate
Główne zastosowania substratów ceramicznych ALN
 

Using an AlN ceramic substrate as the carrier of the chip can isolate the chip from the module's heat dissipation base. The AlN ceramic layer in the middle of the substrate can effectively improve the insulation capacity of the module (the insulation withstand voltage of the ceramic layer is > 2.5 kV). At the same time, the aluminum nitride ceramic substrate has good thermal conductivity, and the thermal conductivity can reach 170-250W/mK. In addition, the expansion coefficient of the AlN ceramic substrate is similar to that of silicon and will not cause stress damage to the chip. The peel strength of the aluminum nitride ceramic substrate is >20N/mm2, z doskonałymi właściwościami mechanicznymi, odpornością na korozję i nie jest łatwy do zdeformacji. Może być stosowany w szerokim zakresie temperatur.

Aluminum Nitride-Substrate

 

 

Popularne Tagi: Substraty ceramiczne ALN, China ALN Ceramic Substrates producenci, dostawcy, fabryka